中国光刻胶领域取得新突破 揭秘微观结构
光刻技术是推动集成电路芯片制程工艺持续微缩的核心驱动力之一。北京大学化学与分子工程学院彭海琳教授团队及合作者利用冷冻电子断层扫描技术，首次在原位状态下解析了光刻胶分子在液相环境中的微观三维结构、界面分布与缠结行为。这一发现指导开发出可显著减少光刻缺陷的产业化方案。相关研究成果已在《自然·通讯》上发表。中国光刻胶领域取得新突破 揭秘微观结构
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