曝中芯国际首款5nm光刻机正在测试!!

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  9月17日消息,据报道,中芯国际正在测试由上海初创公司宇量昇生产的深紫外线(DUV)光刻机,正测试的光刻机采用浸没式技术,类似于ASML所采用的技术。

  过去,中芯国际高度依赖从荷兰半导体设备大厂ASML进口的DUV,但是近年来由于美国的出口管制,只能获得较旧设备。

  

  知情人士透露,中芯国际正在测试一台28纳米的DUV设备,并利用多重曝光来生产7纳米芯片。

  据透露,中芯国际试用的这类设备也能被推向极限以生产5纳米处理器,但良率会偏低,无法再进一步制造更先进的产品。

  报道称,如果能够量产先进的DUV光刻机,这将是中国大陆突破美国芯片出口管制的重大胜利,不仅能减少对西方技术的依赖,还能提升先进AI处理器的产能。

  还有分析师表示:“如果测试成功,这将是中国企业的重要一步,未来可在此基础上推进更先进的设备。”

  
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